關鍵詞: 鈦靶,鈦合金鍛件,68彩票,鈦合金棒
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鈦靶材

鈦靶材 純鈦圓靶 鍍膜靶

發布時間:2020/04/07 點擊量:
                                                                                             

鈦靶材
1.從用材上分:板靶,管靶,圓靶

2.從用途上分:工具鍍,裝飾鍍

3.真空鍍膜分為:濺射鍍,離子鍍膜,蒸發鍍膜

裝飾鍍:是為了改善工件外觀裝飾性能和色澤,同時使工件更耐磨耐腐蝕,延長其壽命; 這方面主要用于五金行業各個領域(如門窗五金,鎖具,衛浴五金等行業)。

工具鍍:主要目的是為了提高工件表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦系數,提高工件的使用壽命。

鈦陽極,主要用于化工,電鍍行業,污水處理。

品 名 純度 密度 鍍膜優勢色 形狀 常規尺寸 應用行業
鈦鋁(TiAl)合金靶 2N8-4N 3.6-4.2 玫瑰金/咖啡色 圓柱形 直 徑
60/65/95/100*30/32/40/45mm


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純鉻(Cr)靶 2N7-4N 7.19 白色/黑色 圓柱形
純鈦(Ti)靶) 2N8-4N 4.51 金黃色/槍黑色
藍色/玫瑰紅
圓柱形
純鋯(Zr)靶 2N5-4N 6.5 金色 圓柱形
純鋁(Al))靶 4N-5N 2.7 銀色 圓柱形
純鎳(Ni)靶 3N-4N 8.9 金屬本色 圓柱形
鎳釩(Ni)靶 3N 8.57 藍綠色 圓柱形
純鈮(Nb)靶 3N 8.57 白色 圓柱形
純鉭(Ta)靶 3N5 16.4 黑色/紫色 圓柱形
純鉬(Mo)靶 3N5 10.2 黑色 圓柱形
2、靶材的主要性能要求
純度
純度是靶材的主要性能指標之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。
不過在實際應用中,對靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業的迅速發展,硅片尺寸由6”, 8“發展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求,而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。
雜質含量
靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如,半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材,對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率,還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
通常靶材為多晶結構,晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材,晶
粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快;而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

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